先进光刻理论与应用

课程编码：180234140100P4011H 英文名称：Advanced Lithography Theory and Applications 课时：20 学分：1.00 课程属性：研讨课 主讲教师：齐月静

本课程是集成电路科学与工程、微电子学与固体电子学、光学工程等学科的专业课。该课程围绕先进制程对光刻装备和工艺的需求，系统深入地讲解光刻机相关理论和应用场景，范围涵盖光源、照明、投影物镜、调焦调平、对准、精密定位等光刻机核心技术，以及光刻关键参数控制如特征尺寸均匀性控制、套刻误差控制等典型应用，便于从事集成电路领域研究的相关人员快速全面地掌握光刻相关理论与实际应用场景。通过学习该课程，学生在掌握专业技能的同时，增强其协同开发的科研意识，为其进入研究所从事科研工作打下坚实基础。

工程光学、物理光学、模拟电路、数字电路、半导体物理等

第一章 先进光刻技术概述 齐月静
第1节 先进光刻技术概述 1.0学时
第二章 光刻曝光光源 齐月静
第1节 深紫外光源 1.0学时
第2节 极紫外光源 1.0学时
第三章 照明系统 齐月静
第1节 照明系统组成及指标 1.0学时
第2节 离轴照明技术 1.0学时
第3节 光场匀化技术 1.0学时
第四章 投影物镜 齐月静
第1节 投影物镜组成及指标 1.0学时
第2节 设计加工及镀膜技术 1.0学时
第3节 像质检测技术 1.0学时
第五章 调焦调平系统 齐月静
第1节 曝光位调焦调平 1.0学时
第2节 测量位调焦调平 1.0学时
第六章 对准系统 齐月静
第1节 同轴对准系统 1.0学时
第2节 离轴对准系统 1.0学时
第3节 对准误差控制 1.0学时
第七章 精密定位和综合控制 齐月静
第1节 运动台组成及指标 1.0学时
第2节 双频激光干涉测量技术 1.0学时
第3节 平面光栅测量技术 1.0学时
第八章 光刻关键参数控制 齐月静
第1节 曝光剂量控制 1.0学时
第2节 特征尺寸控制 1.0学时
第3节 套刻误差控制 1.0学时

齐月静，博士生导师,中国科学院微电子研究所研究员，中国科学院大学岗位教授。一直从事光刻机高精度检测技术研发工作，作为负责人承担并完成了国家科技重大专项，科技部重点研发计划，北京市揭榜挂帅，中科院A类先导专项等多项科研任务。代表性成果有：研制了193nm光刻机投影曝光光学系统像质检测装置，实现物镜36项波像差的纳米级精度检测；研制了应用于193nm波长、65nm分辨率光刻机的损耗类光学元件，目前该类元件完全依赖进口，其成功研制有效解决了国外突然断供的难题；开发了套刻/对准矢量仿真模型，实现了部件的测量精度和工艺适应能力精确预测；以第一作者或通讯作者发表SCI/EI检索论文30余篇，授权发明专利50余项，在光刻方向已培养10余名博/硕士研究生。现任科技部攻关项目责任专家、中科院先导专项项目监理专家，中国仪器仪表学会集成电路测量仪器分会委员等。