课程大纲

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材料的气相沉积制备技术

课程编码:080500M03001H 英文名称:Materials Preparation Technology-- Vapor Deposition 课时:20 学分:1.00 课程属性:一级学科研讨课 主讲教师:杨少延

教学目的要求
本课程为材料学科各专业硕士生和博士生的专业选修课和研讨课。本课程为从事薄膜材料、纳米结构材料、半导体材料及半导体器件研究与技术开发的学生提供必要的专业基础知识。主要授课对象是材料学、信息技术、电子技术的学生,物理学和化学专业的学生也可选学。通过本课程不仅能够了解和掌握常用或最先进的薄膜材料、纳米结构材料及半导体单晶材料的气相沉积制备技术与方法,还能够为各种功能和结构薄膜材料制备、半导体器件结构设计制备及技术开发提供有益指导。内容包括:材料的物理气相沉积制备技术(原理、设备、工艺)、化学气相沉积制备技术(原理、设备、工艺)及异质外延技术。

预修课程
大学物理、固体物理、薄膜材料

大纲内容
第一章 薄膜材料相关基础知识 2学时
第1节 薄膜材料相关基础知识
第二章 材料的物理气相沉积制备技术 6学时
第1节 真空蒸发镀膜
第2节 真空溅射镀膜
第3节 真空离子镀膜
第三章 材料的化学气相沉积制备技术 6学时
第1节 常压化学气相沉积
第2节 低压化学气相沉积
第3节 等离子体增强化学气相沉积
第4节 原子层沉积
第5节 金属有机物化学气相沉积
第6节 氢化物气相外延
第四章 材料的气相沉积制备技术研讨 6学时
第1节 电子束蒸发组研讨
第2节 分子束外延组研讨
第3节 磁控溅射组研讨
第4节 等离子体增强化学气相沉积组研讨
第5节 原子层沉积组研讨
第6节 金属有机物化学气相沉积组研讨

参考书
1、 《真空镀膜原理与技术》(第一版) 《薄膜材料与薄膜技术》(第二版)

课程教师信息