课程大纲

课程大纲

半导体微纳加工技术

课程编码:080900M02001H 英文名称:Micro/Nano processing technology for semiconductors 课时:50 学分:3.00 课程属性:一级学科普及课 主讲教师:王晓东等

教学目的要求
本课程为电子科学与技术学科研究生的学科专业课。内容不仅涵盖光刻、镀膜、刻蚀等传统半导体器件工艺,而且紧密结合工艺平台研发实例及最新成果,重点介绍当前广泛应用的各种半导体微纳加工技术手段。课程所讲述的加工技术是各类半导体及其他信息功能器件研发制造中的关键核心技术,如光电子、微电子、微光机电、传感器件等。本课程能够帮助从事各类半导体器件、微纳功能器件等的研究生了解并掌握相关器件制备手段。

预修课程
半导体物理

大纲内容
第一章 综述 3学时 王晓东
第1节 半导体微纳加工技术的进展
第2节 微纳加工技术在器件研发中的应用
第3节 超净间介绍及使用注意事项
第二章 微纳米光刻技术 8学时 王晓东
第1节 纳米光刻技术基础
第2节 电子束曝光技术
第3节 飞秒光刻与纳米压印技术
第三章 聚焦离子束技术 4学时 王晓东
第1节 FIB系统介绍
第2节 离子源及其与材料的相互作用
第3节 FIB基本功能与原理
第4节 FIB的应用
第四章 薄膜淀积技术 8学时 王晓东
第1节 化学气相沉积(CVD)
第2节 物理气相沉积(PVD)
第3节 原子层沉积(ALD)
第五章 刻蚀技术 7学时 王晓东
第1节 湿法腐蚀技术
第2节 干法刻蚀技术
第3节 刻蚀技术的进展
第六章 掺杂技术 3学时 王晓东
第1节 原位掺杂
第2节 高温扩散
第3节 离子注入
第4节 掺杂工艺实例
第七章 其他微纳加工技术 4学时 王晓东
第1节 晶片键合技术
第2节 激光加工技术
第八章 测试表征技术 2学时 王晓东
第1节 微观结构表征
第2节 常用电学、光学、材料性能表征等
第九章 微纳加工技术的应用 2学时 王晓东
第1节 微纳加工技术在半导体器件中的应用
第十章 实践课 4学时 王晓东
第1节 超净间体验
第2节 基本半导体工艺流程体验
第十一章 作业讲解、答疑 2学时 王晓东
第1节 作业讲解
第2节 答疑
第十二章 考试 3学时 王晓东
第1节 课堂开卷

参考书
1、 半导体器件物理与工艺 施敏 2008年4月 苏州大学出版社

课程教师信息
王晓东,男,研究员,博士,博士生导师。2001年毕业于中科院半导体所获博士学位,先后在日本、瑞典做过博士后研究,期间主要从事分子束外延生长III-V半导体激光器材料以及相应的器件制备与性能表征等工作。2004回国任职于中科院半导体所集成技术工程研究中心,现任中心主任。主要研究领域有纳米热电器件、半导体量子点器件、相变存储器件、高效太阳电池等。多年来参与建设了大型半导体微纳加工技术平台,还负责了大量半导体工艺开发项目,涉及国内外百余家研究机构,大学,及公司企业等,内容包含了微电子、光电子等众多领域,积累了丰富的技术以及大型半导体工艺平台运行管理经验。还主持和参与了多项国家自然科学基金、863、973以及中科院装备研发项目等;发表和合作发表论文百余篇;培养多名博士、硕士。